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當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >    >  磁控濺射鍍膜儀  >  CY-MSH325X-DCDCRF-SS三靶向上磁控濺射鍍膜儀

三靶向上磁控濺射鍍膜儀
簡要描述:

三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH325X-DCDCRF-SS
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-17
  • 訪  問  量:290

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價(jià)格區(qū)間10萬-30萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比磁控濺鍍?cè)O(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、定制化的特點(diǎn)。該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設(shè)備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。它是實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

三靶向上磁控濺射鍍膜儀  

三靶向上磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):  

 

項(xiàng)目  

明細(xì)  

產(chǎn)品型號(hào)  

CY-MSH325X-DCDCRF-SS  

供電電壓  

AC220V50Hz  

整機(jī)功率  

6KW  

系統(tǒng)真空  

5×10-4Pa  

樣品臺(tái)  

外形尺寸  

φ150mm  

加熱溫度  

750℃  

控溫精度  

±1  

可調(diào)轉(zhuǎn)速  

20rpm  

磁控靶槍  

靶材尺寸  

直徑Φ50.8mm,厚度3mm  

冷卻模式  

循環(huán)水冷  

水流大小  

不小于10L/Min  

靶槍數(shù)量  

3  

真空腔體  

腔體尺寸  

直徑φ325mm,高度600mm  

腔體材質(zhì)  

SUU304不銹鋼  

觀察窗口  

直徑φ100mm  

開啟方式  

前面開啟  

氣體控制  

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM  

真空系統(tǒng)  

配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S  

膜厚測量  

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?  

濺射電源  

直流電源功率500W*2,射頻電源功率300  

控制系統(tǒng)  

CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)  

真空計(jì)  

電阻規(guī)真空計(jì)  

設(shè)備尺寸  

1090mm×900mm×1250mm  

設(shè)備重量  

350kg  


  




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