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桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍
簡要描述:

桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術,通過磁場增強離子化效率,從而實現高質量、均勻的薄膜沉積

  • 產品型號:CY-MSZ254-I-DC-SS
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:250

詳細介紹

品牌CYKY價格區間10萬-30萬
產地類別國產應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天

桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術,通過磁場增強離子化效率,從而實現高質量、均勻的薄膜沉積。

磁控濺射鍍膜儀產品特點:

高效鍍膜:采用磁控濺射技術,沉積速率高,薄膜均勻性好。
多功能應用:支持多種靶材和基材,適用于不同材料的薄膜沉積。
智能控制:配備的控制系統,實現精準的工藝參數控制。
模塊化設計:方便維護和升級,可根據需求定制各種功能模塊。

環境友好:低能耗設計,減少對環境的影響。

磁控濺射鍍膜儀技術參數:


參數名稱

參數說明

產品名稱

桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍

產品型號

CY-MSZ254-I-DC-SS

真空腔

腔體材質

304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理

取放模式

前開門方式取放樣品和靶材

觀察窗

直徑100mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染

樣品臺

樣品尺寸

直徑≦100mm的平面樣品均可

旋轉速度

不旋轉和旋轉型(0-30RPM)可選

加熱溫度

RT-500;RT-800;RT-1000℃可選

磁控靶

靶槍類型

普通永磁靶,可調角度

靶材尺寸

直徑2英寸,厚度≦3mm,

濺射功率

300W

濺射方式

直流濺射

工作真空

0.3-3Pa

電源

直流電源 300W *2

濺射氣體

高純氬氣,純度99.99%

真空測量

復合真空計,電阻規+電離規,測量范圍:105-10-5Pa

真空獲取

前級泵

抽速 1.1L/S

分子泵

抽速  600L/S

膜厚測量

通常配CYKY膜厚測量儀

也可選配進口品牌,價格額外計算

外形尺寸

550mm*350mm*450mm

包裝尺寸

770×720*730mm

包裝重量

110 KG

         



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