本設(shè)備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄；腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。

磁控鍍膜儀典型應(yīng)用：

•    科研領(lǐng)域：納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。

•    電子行業(yè)：半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。

•    教學(xué)演示：材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：

桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體技術(shù)參數(shù)：